光刻机又名:掩模对准**机,**系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准**、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
爱是一念之差,最幸福不过就是,你曾温柔呼唤,而我恰好有过应答。男子吻发,**对她的感情就如同绵延千里的三千青丝。
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